锆铪化合物

锆-UIO-66

N/A

- 华威锐科 95%

钨酸锆

Zirconiumtungstate

- 华威锐科 ≥95%

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 ≥99% ,500nm

锆酸四丁酯

Zirconium(IV) butoxide solution

- 华威锐科 40 wt. %正丁醇溶液

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 99%，100-200nm

硅铪合金

Hafnium silicide

- 华威锐科 ≥99%,≤1mm,铪:80-85%,硅:20-15%,电镜观察无明显分相

硅化铪

HAFNIUM SILICIDE

- 华威锐科 99.5% ,＜1μm

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 ≥99%,200mesh

碳化铪

HAFNIUM CARBIDE

- 华威锐科 99% ,100-300nm

硼化锆

Zirconium Boride

- 华威锐科 ≥99% 40nm

硼化锆

ZIRCONIUM BORIDE

- 华威锐科 99.5% ＜1μm

硼化锆

ZIRCONIUM BORIDE

- 华威锐科 ≥99% ,100nm

硼化铪

HAFNIUM BORIDE

- 华威锐科 99.5%,500nm

氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

Zirconium(IV) oxide-yttria stabilized

- 华威锐科 99.9%,22-53μm

氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

N/A

- 华威锐科 99.9% 200-400目

氧化钇稳定氧化锆(IV)5YSZ

Zirconium(IV) oxide-yttria stabilized

- 华威锐科 5%摩尔比,8%质量比,50-80nm

碳化铪

Hafnium carbide

- 华威锐科 99%，D(50)500nm，Zr＜0.5%

碳化铪

HAFNIUM CARBIDE

- 华威锐科 99.5%,100nm

氮化铪

Hafnium nitride

- 华威锐科 99.9% 200nm

正丁醇铪

Hafnium(IV) n-butoxide

- 华威锐科 Hf≥22%