锆铪化合物

硅锆合金ZS70

N/A

- 华威锐科 99%，Zr:Si62：38（±3%）,325mesh

正丁醇铪

Hafnium(IV) n-butoxide

- 华威锐科 40-45%丁醇溶液

氮化铪

Hafnium nitride

- 华威锐科 99.9% 200nm

硅铪合金

HAFNIUMSILICIDE

- 华威锐科 99.5%，D501-3μm

碳化铪

HAFNIUM CARBIDE

- 华威锐科 99.5%,100nm

碳化铪

Hafnium carbide

- 华威锐科 99% D(50)500nm Zr＜0.5%

氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

N/A

- 华威锐科 99.9% 200-400目

硼化铪

HAFNIUM BORIDE

- 华威锐科 99.5%,500nm

硼化锆

ZIRCONIUM BORIDE

- 华威锐科 ≥99% ,100nm

硼化锆

ZIRCONIUM BORIDE

- 华威锐科 99.5% ＜1μm

硼化锆

Zirconium Boride

- 华威锐科 ≥99% 40nm

碳化铪

HAFNIUM CARBIDE

- 华威锐科 99% ,100-300nm

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 99%, 1-3μm,D90＜3μm

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 ≥99%,200mesh

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 99.9%, 2-5μm

硅铪合金

HAFNIUMSILICIDE

- 华威锐科 99.5%,＜1μm

硅铪合金

Hafnium silicide

- 华威锐科 ≥99%,≤1mm,铪:80-85%,硅:20-15%,电镜观察无明显分相

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 99%，100-200nm

正丁醇锆(IV)

Zirconium(IV) Butoxide

- 华威锐科 40 wt. %正丁醇溶液

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 ≥99% ,500nm