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氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

N/A

- 华威锐科 99.9%,22-53μm

氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

N/A

- 华威锐科 99.9% 200-400目

氧化钇稳定氧化锆5YSZ

N/A

- 华威锐科 5%摩尔比，8%质量比，粒径50-80nm

氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

N/A

- 华威锐科 1-3μm

氧化钇稳定氧化锆喷涂粉8YSZ

Zirconium(IV) oxide-yttria stabilized

- 华威锐科 8%的摩尔比,13.5%质量比,15-45微米

氧化钇稳定氧化锆(IV)4YSZ

Zirconium(IV) oxide-yttria stabilized

- 华威锐科 4%摩尔比,8%质量比,15-45微米

薄壁空心氧化钇稳定氧化锆8YSZ

Yttria stabilized zirconia

- 华威锐科 D50 40-50μm

氧化钇稳定氧化锆3YSZ

N/A

- 华威锐科 3% 的摩尔比，5.3%质量比，粒径50-80nm

氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

Zirconium(IV) oxide-yttria stabilized

- 华威锐科 8%的摩尔比，13.5%质量比，粒径50-80nm

钇稳定氧化锆

Yttria stabilized zirconia

- 麦克林 99.9% trace metals basis (purity excludes ~2% HfO2)

8%氧化钇稳定氧化锆 (Y0.16Zr0.92O2.08)

8% Yttria Stabilized Zirconia (Y0.16Zr0.92O2.08)

- TCI